2021年10月22日，據標鴿知產了解，今日，華為技術有限公司公開了于2020年4月22日申請的“去除眼鏡光斑的方法、裝置及電子設備”專利，公開號為CN113542580A。

　　專利摘要顯示，本申請實施例，可以很好的預測圖像中的眼鏡光斑的分布，從而提高了后期處理的效率，降低了處理成本，改善了戴眼鏡的用戶在通過屏幕補光進行拍攝時的照片質量。

　　由上可知，華為此項專利申請日為2020年4月22日，公開（公告日）為2021年10月22日。那么，專利申請日和公告日的區別是什么？下面請看標鴿知產的小編詳細介紹。

　　申請日是你將專利申請文件提交到專利局后專利局收文件的日期。公告日通常是專利授權公告的日期，而對于發明專利申請而言，在授權之前還會公開一次，即初步審查合格后的初始公開。【推薦閱讀：什么是專利權？申請專利需要注意什么？】

　　公開是發明專利申請審查的一個程序，目的在于讓公眾知道有人想要申請被公開的發明，從公開到授權之前，任何人都可以向專利局遞交能夠證明被公開專利申請不具備新穎性或創造性的材料，這樣做的目的應該是利用社會公眾力量來對專利申請進行審查吧。專利申請被公開一段時間后，專利局才會對專利申請進行正式審查，比如權利要求書是否清楚，說明書是否充分公開，發明是否具備三性，同一個申請中的多個發明之間是否具備單一性等，在申請滿足以上要求后，就可以授權了。

　　專利申請日在法律上具有十分重要的意義：它確定了提交申請時間的先后，在有相同內容的多個申請時，申請的先后決定了專利權授予誰；它是判斷發明創造是否具有新穎性的日期標準，因為它確定了對現有技術的檢索時間界限；該日期還是審查程序中一系列重要期限及專利申請授權后專利權保護期的起始日，并且自該申請日起至授權以前，申請人的權利也會受到“臨時保護”，對該申請日以后同樣主題的申請因與其相抵觸而將喪失新穎性，不能授予專利權。

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